超声清洗方法和装置
被视为撤回的申请
摘要
用以在一液槽内清洗半导体圆片的一种方法和装置，包括将一液态媒质例如超高纯水供给液槽的装置，以及一个配置在液槽内的电声换能器。在以大约20千赫至90千赫范围内的一个能源将能量供给换能器，以便在液槽内形成一密集的界限分明的强成穴区，使工件沿通过换能器的第一方向流过该强成穴区。超高纯水沿着与工件移过换能器的相反的方向流过换能器和工件。
基本信息
专利标题 ：
超声清洗方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87103659A
申请号 ：
CN87103659
公开（公告）日 ：
1987-11-25
申请日 ：
1987-05-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
查尔斯·里德·怀特
申请人 ：
伊斯曼柯达公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
肖掬昌
优先权 ：
CN87103659
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
1990-02-28 ：
被视为撤回的申请
1987-11-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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