喹啉-3-羟酸衍生物的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
式(I)的化合物(式中R1是烷氧基，R是烷基、卤代烷基、烷氨基、环烷基或任意取代的苯基，X是氯或氟，Y是一个特定的杂环)有极好的抗菌活性，它们能通过将Y代表的基团引入相应的化合物中来制备，其中Y被一个卤素原子所代替。
基本信息
专利标题 ：
喹啉-3-羟酸衍生物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87103693A
申请号 ：
CN87103693.2
公开（公告）日 ：
1988-03-30
申请日 ：
1987-03-31
授权号 ：
CN1019114B
授权日 ：
1992-11-18
发明人 ：
岩田正义木村富美夫藤原义己胜部哲嗣
申请人 ：
三共株式会社;宇部兴产株式会社
申请人地址 ：
日本东京中央区
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
罗才希
优先权 ：
CN87103693.2
主分类号 ：
C07D401/04
IPC分类号 ：
C07D401/04 C07D413/04 C07D417/04 A61K31/47
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D401/00
杂环化合物，含有两个或更多个杂环，以氮原子作为仅有的杂环原子，至少有1个环是仅含有1个氮原子的六元环
C07D401/02
含有两个杂环
C07D401/04
被环原子-环原子的键直接连接的
法律状态
1999-05-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-08-18 ：
授权
1992-11-18 ：
审定
1988-03-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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