一种制备酞菁类光电导体阻挡层的材料及方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种制备酞菁类光电导体阻挡层的材料及方法，它是采用聚甲基丙烯酸甲酯(有机玻璃)作为酞菁光电导体阻挡层的材料。经纯化、干燥后，用纯净的氯仿或四氢呋喃溶剂溶解，配成4～8％的溶液，加盖密封备用。采用本发明易于成膜，制作工艺简便，可以提高酞菁类光电导体的电荷接受能力，并减少暗衰，降低酞菁类光电导体的成本。
基本信息
专利标题 ：
一种制备酞菁类光电导体阻挡层的材料及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN88100214A
申请号 ：
CN88100214.3
公开（公告）日 ：
1988-10-12
申请日 ：
1988-01-04
授权号 ：
CN1010432B
授权日 ：
1990-11-14
发明人 ：
汪茫马兴法杨士林
申请人 ：
浙江大学;湛江复印机工业公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市玉泉
代理机构 ：
浙江大学专利代理事务所
代理人 ：
张法高
优先权 ：
CN88100214.3
主分类号 ：
G03G5/04
IPC分类号 ：
G03G5/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G5/00
采用辐照用于原稿记录的记录构件；记录构件的制造；所用材料的选择
G03G5/02
电荷接受层
G03G5/04
光导层；电荷发生层或电荷转移层；上述各层的添加剂和黏接剂
法律状态
1993-04-28 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-06-26 ：
授权
1990-11-14 ：
审定
1988-11-23 ：
实质审查请求
1988-10-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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