铁磁膜及使用该膜的磁头
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种抗腐蚀铁磁膜和使用该铁磁膜的磁头。耐腐蚀膜除以铁为主要成分外，包括一种对于铁是间隙可溶的元素，还以0.5～5原子百分比的浓度包括从Ni，Rh，Ru，Pd，Zr，Nb，Ta，Ag，Os，Ir，Pt，Au，Cr，Mo，W，Ti，Bi，V，Co和Cu中选出的至少一种元素。
基本信息
专利标题 ：
铁磁膜及使用该膜的磁头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN88101596A
申请号 ：
CN88101596.2
公开（公告）日 ：
1988-10-05
申请日 ：
1988-03-25
授权号 ：
CN1012234B
授权日 ：
1991-03-27
发明人 ：
小林俊雄中谷亮一大友茂一熊坂登行
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
陈景峻
优先权 ：
CN88101596.2
主分类号 ：
H01F10/14
IPC分类号 ：
H01F10/14 C22C38/00 G11B5/31
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F10/00
磁性薄膜，如单畴结构的
H01F10/08
按磁层的特性区分的
H01F10/10
按成分区分的
H01F10/12
是金属或合金
H01F10/14
含有铁或镍的
法律状态
2004-05-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 ：
其他有关事项
1991-12-11 ：
授权
1991-03-27 ：
审定
1988-10-05 ：
公开
1988-10-05 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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