磁膜以及使用这种磁膜的磁头
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种磁膜和使用这种磁膜(5，9)的磁头。这种磁膜是通过将一种或多种元素填加到由铁构成或以铁为主要成分的磁膜中形成的，这些元素选自可填隙地溶于铁的元素：硼、氮、碳和磷，元素的含量是5～20％原子比。
基本信息
专利标题 ：
磁膜以及使用这种磁膜的磁头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87103907A
申请号 ：
CN87103907.9
公开（公告）日 ：
1987-12-09
申请日 ：
1987-05-30
授权号 ：
CN1006107B
授权日 ：
1989-12-13
发明人 ：
小林俊雄大友茂一中谷亮一熊坂登行
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
李勇
优先权 ：
CN87103907.9
主分类号 ：
H01F10/10
IPC分类号 ：
H01F10/10 G11B5/31
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F10/00
磁性薄膜，如单畴结构的
H01F10/08
按磁层的特性区分的
H01F10/10
按成分区分的
法律状态
2001-08-01 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1990-08-29 ：
授权
1989-12-13 ：
审定
1987-12-09 ：
公开
1987-11-11 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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