用光照制造超导图形的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
用溅射法在衬底上淀积超导陶瓷薄膜，借助于陶瓷的低导热率，用激光束照射陶瓷薄膜，以通过升华除去受照射的部分，从而在陶瓷薄膜上形成图形。
基本信息
专利标题 ：
用光照制造超导图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN88101989A
申请号 ：
CN88101989.5
公开（公告）日 ：
1988-10-26
申请日 ：
1988-04-07
授权号 ：
CN1013906B
授权日 ：
1991-09-11
发明人 ：
山崎舜平
申请人 ：
株式会社半导体能源研究所
申请人地址 ：
日本神奈川县厚木市
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
肖掬昌
优先权 ：
CN88101989.5
主分类号 ：
H01B12/02
IPC分类号 ：
H01B12/02 H01F5/08 H01L39/12 H01L39/24
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
H01B12/00
超导或高导导体、电缆或传输线
H01B12/02
按其形状区分的
法律状态
1998-06-03 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1992-05-27 ：
授权
1991-09-11 ：
审定
1990-02-21 ：
实质审查请求
1988-10-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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