用光致粘附微粒成像的方法
公开
摘要
一种成像工艺，该工艺包括一个连续的感光微粒层的制备过程，所述微粒是用在光化辐射下曝光变粘的材料制成的，在光化辐射下将上述微粒层进行成像曝光，于是上述粒子在曝光区域内变粘，把印像基片安放在上述微粒层上并将曝光区域内的上述微粒转印到所述印像基片上。
基本信息
专利标题 ：
用光致粘附微粒成像的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1031611A
申请号 ：
CN88102925.4
公开（公告）日 ：
1989-03-08
申请日 ：
1988-05-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
加里·F·希尔布兰德
申请人 ：
米德公司
申请人地址 ：
美国俄亥俄州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王以平
优先权 ：
CN88102925.4
主分类号 ：
G03G13/01
IPC分类号 ：
G03G13/01 G03C5/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G13/00
应用电荷图形的电记录工艺
G03G13/01
用于多色复制的
法律状态
1989-03-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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