局部分子结构分析仪
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种局部分子结构分析仪，除了用样品的红外吸收光谱峰的波数以外，还用吸收光谱峰的强度来分析局部结构中的分子，以便改进分析精度。
基本信息
专利标题 ：
局部分子结构分析仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1030478A
申请号 ：
CN88104151.3
公开（公告）日 ：
1989-01-18
申请日 ：
1988-07-04
授权号 ：
CN1010614B
授权日 ：
1990-11-28
发明人 ：
市村克彦田岛孝博齐藤翘
申请人 ：
株式会社岛津制作所;宇部兴产株式会社
申请人地址 ：
日本京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
刘建国
优先权 ：
CN88104151.3
主分类号 ：
G01N21/35
IPC分类号 ：
G01N21/35
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
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G01N
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利用红外光
法律状态
1999-08-25 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-08-14 ：
授权
1990-11-28 ：
审定
1989-01-18 ：
公开
1989-01-04 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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