大剂量范围的氟化锂晶片剂量计
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明为大剂量范围的氟化锂晶片剂量计，属于核辐射加工领域中的剂量监测技术，适用于60coγ-射线和电子束辐射剂量的监控，它所用的剂量信息记录介质是LiF晶片。其特点是测量范围宽，达102-107GY；晶片的F，M，R1，R2，N1和N2吸收带的平均吸收系数与剂量的关系可以分段表示为幂函数的形式；性能稳定，可长期存档备查。此剂量计为工、农、医等行业中的辐射加工技术提供了一种大范围，可靠的剂量信息的记录手段。
基本信息
专利标题 ：
大剂量范围的氟化锂晶片剂量计
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1030648A
申请号 ：
CN88104277.3
公开（公告）日 ：
1989-01-25
申请日 ：
1988-07-16
授权号 ：
CN1016466B
授权日 ：
1992-04-29
发明人 ：
王存达陈范欣李浩杨文英关迟
申请人 ：
天津市技术物理研究所;天津大学
申请人地址 ：
天津市南开区
代理机构 ：
天津大学专利代理事务所
代理人 ：
魏赏辰
优先权 ：
CN88104277.3
主分类号 ：
G01T1/02
IPC分类号 ：
G01T1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/02
剂量计
法律状态
1994-08-31 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-01-06 ：
授权
1992-04-29 ：
审定
1989-10-11 ：
实质审查请求
1989-01-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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