四甲基哌啶子基-S-三嗪类化合物
专利申请的视为撤回
摘要
含有至少一个式I基团的化合物，其中X是完成其环使之形成哌啶环的基，该化合物是抗由光、氧和热而引起的损伤的有机材料的稳定剂。
基本信息
专利标题 ：
四甲基哌啶子基-S-三嗪类化合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1036760A
申请号 ：
CN89101832.8
公开（公告）日 ：
1989-11-01
申请日 ：
1989-02-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
简·罗迪吉尔哈德·利茨马利奥·斯隆哥
申请人 ：
希巴-盖吉股份公司
申请人地址 ：
瑞士巴塞尔
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
唐跃
优先权 ：
CN89101832.8
主分类号 ：
C07D401/04
IPC分类号 ：
C07D401/04 C07D401/14 C07D471/10 C07D498/10 C07D491/10 C07DC08K5/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D401/00
杂环化合物，含有两个或更多个杂环，以氮原子作为仅有的杂环原子，至少有1个环是仅含有1个氮原子的六元环
C07D401/02
含有两个杂环
C07D401/04
被环原子-环原子的键直接连接的
法律状态
1993-12-29 ：
专利申请的视为撤回
1991-04-03 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1989-11-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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