无定形硅感光鼓的制备装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本实用新型提出了用双弧形放电阳极结构制备静电复印用无定形硅感光鼓。在该装置中反应气体流向与鼓基表面平行相切而不是垂直于表面，制得的无定形硅感光鼓具有完整、无龟裂的表面和良好的充放电性能。在双弧形放电阳极外围再设置金属网罩或是聚四氟乙烯罩，提高了感光鼓的沉积速率，并改善了轴向均匀性。
基本信息
专利标题 ：
无定形硅感光鼓的制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN89216549.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1989-09-15
授权号 ：
CN2058764U
授权日 ：
1990-06-27
发明人 ：
胡坚陈煜胡宏勋
申请人 ：
机械电子工业部第十八研究所
申请人地址 ：
天津市第296信箱(邮码300381)
代理机构 ：
机械电子工业部电子专利服务中心
代理人 ：
邱应凤
优先权 ：
CN89216549.9
主分类号 ：
G03G15/02
IPC分类号 ：
G03G15/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G15/00
应用电荷图形的电记录工艺的设备
G03G15/02
用于沉积均匀电荷的，即感光用的；电晕放电装置
法律状态
1993-08-04 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-02-20 ：
授权
1990-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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