聚醚醚酮发光材料的制备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种高分子稀土发光材料的制备方法。高分子稀土发光材料是将稀土离子(En3+、Tb3+)的受能发光特性同高分子的优良材料性能结合在一起的新型发光材料。本发明先将聚醚醚酮(PEEK)进行磺化处理，然后与稀土离子配合，生成耐辐照、耐高温、发光强的PEEK-Tb发光材料，本制备方法简单，无特殊的设备要求，反应条件易满足、易控制、制得材料稳定性好。
基本信息
专利标题 ：
聚醚醚酮发光材料的制备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1057287A
申请号 ：
CN91104699.2
公开（公告）日 ：
1991-12-25
申请日 ：
1991-07-07
授权号 ：
CN1031346C
授权日 ：
1996-03-20
发明人 ：
张志毅吴叔鸰曾汉民
申请人 ：
中山大学
申请人地址 ：
510275广东省广州市新港西路
代理机构 ：
中山大学专利事务所
代理人 ：
叶贤京
优先权 ：
CN91104699.2
主分类号 ：
C09K11/06
IPC分类号 ：
C09K11/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K11/00
发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料
C09K11/06
含有机发光材料
法律状态
1999-08-25 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-03-20 ：
授权
1992-07-29 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-12-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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