用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法和系统
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明揭示了一种制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统，该系统包括：使待刻划码盘匀速旋转的回转台装置；产生与待刻划码盘角位置锁定且与待刻划码盘所需的编码图形相应的编码信号的编码信号产生装置；受所述编码信号控制、在码盘的待刻划区域中形成直径为微米级或亚微米级光斑的刻划光斑产生装置；使所述刻划光斑与待刻划码盘产生相对位移的径向直线给装置。本发明具有刻划速度快、精度高及可刻划图案复杂的光栅码盘的优点。$＃!
基本信息
专利标题 ：
用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1072273A
申请号 ：
CN91110769.X
公开（公告）日 ：
1993-05-19
申请日 ：
1991-11-11
授权号 ：
CN1073719C
授权日 ：
2001-10-24
发明人 ：
沈冠群吴宾初蔡康泽曹沛其黄宣邵陈垦
申请人 ：
上海市激光技术研究所
申请人地址 ：
200233上海市宜山路770号
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
沈昭坤
优先权 ：
CN91110769.X
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G01D5/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2005-01-12 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
2001-10-24 ：
授权
1995-02-01 ：
实质审查请求的生效
1993-05-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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