动态光栅刻划机的自动调焦装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明是一种动态光栅刻划机的自动调焦装置，涉及对光刻头结构的改进。其特征在于光电探测头4固定在光刻头8上，支架7与光刻头8之间是弹性连接，压电陶瓷驱动器3通过一固定套6固定在支架7上，挡块9固定在光刻头8的外壳上，并且顶着驱动器3的端部。本发明结构简单，首次解决了在光刻中，因各种误差引起的离焦问题，在±16.5μm的离焦范围内，其调焦精度为3σ≤±0.85μm，扩大了光刻机的工作范围，适于刻划各种形状或大尺寸的光栅尺(板)，提高工效5～7倍。
基本信息
专利标题 ：
动态光栅刻划机的自动调焦装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN90214966.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1990-09-28
授权号 ：
CN2073595U
授权日 ：
1991-03-20
发明人 ：
魏相惠杨胜丰叶宝珠
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
中国科学院成都专利事务所
代理人 ：
张一红
优先权 ：
CN90214966.0
主分类号 ：
G03F7/207
IPC分类号 ：
G03F7/207
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
G03F7/207
聚焦装置，例如自动地
法律状态
1993-08-18 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-10-30 ：
授权
1991-03-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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