4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制备方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
式Ig表示的4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制法。它包括用通式(Ic)表示的衍生物与通式(IV)表示的胺化合物进行还原胺化反应，得到通式(If)表示的衍生物，接着对它进行接触还原，藉此制取通式Ig表示的衍生物。式中n＝2或3，或2，R2、R3、R4、R7含义参见说明书。所述(Ig)衍生物可作为抗肿瘤剂用。
基本信息
专利标题 ：
4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1064278A
申请号 ：
CN92101032.X
公开（公告）日 ：
1992-09-09
申请日 ：
1992-01-25
授权号 ：
CN1035821C
授权日 ：
1997-09-10
发明人 ：
寺田忠史藤本胜彦野村诚山下纯一武田节夫小武内尚山口秀夫W·康斯坦蒂
申请人 ：
大鹏药品工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨丽琴
优先权 ：
CN92101032.X
主分类号 ：
C07D493/04
IPC分类号 ：
C07D493/04 A61K31/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D493/00
杂环化合物，在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子
C07D493/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D493/04
邻位稠合系
法律状态
2008-03-26 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2002-06-12 ：
其他有关事项
1997-09-10 ：
授权
1994-05-25 ：
实质审查请求的生效
1992-09-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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