4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制备方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要

本发明涉及式(Ic)所示衍生物的两种制法。其一是使式(Ia)所示衍生物在惰性溶剂中同时进行氧化还原制取(Ic)。其二是使式(Ia)所示衍生物在惰性溶剂中进行氧化制得(Ib),然后使(Ib)衍生物在惰性溶剂中进行氧化制取(Ic)。(Ic)衍生物用于制备(Ig)表示的4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物。后者可作抗肿瘤剂的有效成分。上述通式中各符号含义参见说明书。

基本信息
专利标题 :
4-脱氧-4-表鬼臼毒素衍生物的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1126723A
申请号 :
CN95103396.4
公开(公告)日 :
1996-07-17
申请日 :
1992-01-25
授权号 :
CN1046521C
授权日 :
1999-11-17
发明人 :
寺田忠史藤本胜彦野村诚山下纯一武田节夫小武内尚山口秀夫W·康斯坦蒂
申请人 :
大鹏药品工业株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
杨丽琴
优先权 :
CN95103396.4
主分类号 :
C07D493/04
IPC分类号 :
C07D493/04  //  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D493/00
杂环化合物,在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子
C07D493/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D493/04
邻位稠合系
法律状态
2008-03-26 :
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
1999-11-17 :
授权
1996-07-17 :
公开
1996-06-19 :
实质审查请求的生效
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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