光谱分析方法和分析系统
专利权的终止
摘要

样品中多种元素被指定为监测元素。每次激发样品时,检测和存储监测元素和待测元素的谱线光强。从存储的数据确定出监测元素各自的谱线光强的分布。根据该分布,确定监测元素各自的谱线光强的优选区。参照存储的数据,累加每次激发监测元素的谱线光强在优选区内时待测元素的谱线光强。

基本信息
专利标题 :
光谱分析方法和分析系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1064547A
申请号 :
CN92101343.4
公开(公告)日 :
1992-09-16
申请日 :
1992-02-28
授权号 :
CN1070609C
授权日 :
2001-09-05
发明人 :
福井勋深山隆男
申请人 :
株式会社岛津制作所
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
上海专利商标事务所
代理人 :
颜承根
优先权 :
CN92101343.4
主分类号 :
G01N21/67
IPC分类号 :
G01N21/67  G01J3/36  G01N21/63  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/66
电激发的,例如电发光
G01N21/67
利用电弧或放电
法律状态
2012-07-04 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101276910656
IPC(主分类) : G01N 21/67
专利号 : ZL921013434
申请日 : 19920228
授权公告日 : 20010905
期满终止日期 : 20120228
2002-06-12 :
其他有关事项
2001-09-05 :
授权
1994-03-30 :
实质审查请求的生效
1992-09-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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