成像装置分析系统和成像装置分析方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本公开说明了成像装置分析系统100和成像装置分析方法。根据一个实施例，成像装置分析系统100包括光源154，和与光源154耦合的、且配置成控制光源154以光学方式将光116传送到成像装置114的处理电路，其中，光源154配置成为分析成像装置114的至少一个成像部件而输出光116，而成像装置114配置成响应接收的光116产生图像，且上述处理电路进一步配置成通过成像装置114访问成像装置114产生的图像数据和处理图像数据114来分析至少一个成像部件的运行状况，而上述图像数据是成像装置114响应对来自光源154的光116的接收而产生的。

基本信息

专利标题：

成像装置分析系统和成像装置分析方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1856121A

申请号：

CN200610079370.4

公开（公告）日：

2006-11-01

申请日：

2006-02-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

T·L·科勒S·D·施特克尔J·M·迪卡洛L·格曼G·J·迪斯波托E·蒙特戈梅里C·L·米勒

申请人：

惠普开发有限公司

申请人地址：

美国德克萨斯州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张志醒

优先权：

CN200610079370.4

主分类号：

H04N17/00

IPC分类号：

H04N17/00