成像分析装置以及成像数据解析方法
实质审查的生效
摘要

本发明的成像分析装置的一方案具备:分析执行部(1),分别对在试样上的测量区域内设定的多个测量点执行基于规定的分析方法的分析来收集成像数据;参照图像获取部(2),获取针对所述测量区域的参照图像;回归分析执行部(36),针对对相同试样得到的所述成像数据和所述参照图像,执行以该成像数据为说明变量,以构成该参照图像的数据为目标变量的规定的回归分析的运算,获取回归模型;预测图像生成部(37),对与执行所述回归分析时的试样不同的试样,通过将由所述分析执行部得到的成像数据应用于所述回归模型,由此生成基于模拟的回归分析结果的预测图像。

基本信息
专利标题 :
成像分析装置以及成像数据解析方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556523A
申请号 :
CN201980101449.8
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2019-11-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
山口真一
申请人 :
株式会社岛津制作所
申请人地址 :
日本国京都府
代理机构 :
上海立群专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杨楷
优先权 :
CN201980101449.8
主分类号 :
H01J49/16
IPC分类号 :
H01J49/16  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
H01J49/10
离子源;离子枪
H01J49/16
用表面电离的,如场致发射、热发射或光电发射
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 49/16
申请日 : 20191114
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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