气体分离复合膜的活性处理
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及通过用处理试剂处理气体分离层制造气体分离复合膜的方法，该处理试剂能与处理过的气体分离复合膜形成离子键。本发明还涉及膜的制造和利用该改进的膜进行气体分离的工艺。
基本信息
专利标题 ：
气体分离复合膜的活性处理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1066992A
申请号 ：
CN92103679.5
公开（公告）日 ：
1992-12-16
申请日 ：
1992-04-21
授权号 ：
CN1032242C
授权日 ：
1996-07-10
发明人 ：
B·比克森J·K·纳尔逊
申请人 ：
联合碳化工业气体技术公司
申请人地址 ：
美国康涅狄格州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
卢新华
优先权 ：
CN92103679.5
主分类号 ：
B01D69/12
IPC分类号 ：
B01D69/12 B01D69/08 B01D71/68 B01D67/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D69/00
以形状、结构或性能为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法
B01D69/12
复合膜；超薄膜
法律状态
2001-06-13 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-07-10 ：
授权
1994-08-17 ：
实质审查请求的生效
1992-12-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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