新型核径迹微孔膜及其制造方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种利用核技术制造的新型核径迹微孔膜及其制造方法。微孔膜的结构特征是形成的微孔具有单锥形结构而不是现有技术的圆柱形结构，因而用作过滤时不易堵孔并提高作业效率。其制造方法特征是利用简便的α放射源放出的α粒子代替现有技术利用复杂的核反应堆或加速器提供的带电重粒子形成核径迹。成本低廉的单锥形核径迹微孔膜更适于在科学、医学、工业等各领域中达到分离、扩散等目的。
基本信息
专利标题 ：
新型核径迹微孔膜及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1079414A
申请号 ：
CN93106830.4
公开（公告）日 ：
1993-12-15
申请日 ：
1993-06-10
授权号 ：
CN1043129C
授权日 ：
1999-04-28
发明人 ：
吴日升
申请人 ：
北京市三喜化学新技术公司
申请人地址 ：
北京市2732信箱
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN93106830.4
主分类号 ：
B01D67/00
IPC分类号 ：
B01D67/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D67/00
专门适用于分离工艺或设备的半透膜的制备方法
法律状态
2006-10-25 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2006-04-19 ：
地址不明的通知
收件人 : 北京市三喜化学新技术公司
文件名称 : 专利权终止通知书
文件名称 : 专利权终止通知书
2005-08-31 ：
地址不明的通知
收件人 : 北京市三喜化学新技术公司
文件名称 : 缴费通知书
文件名称 : 缴费通知书
2004-03-31 ：
地址不明的通知
收件人 : 北京市三喜化学新技术公司
文件名称 : 缴费通知书
文件名称 : 缴费通知书
1999-04-28 ：
授权
1995-07-26 ：
实质审查请求的生效
1993-12-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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