呋喃并苯并吡喃衍生物、它们的制备方法及含这些化合物作为活...
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
通式(I)的呋喃并苯并吡喃衍生物：其中R1是低级烷基，R2是低级烷基、低级烷氧基、卤素原子或卤素原子取代的低级烷基，R3是低级烷基、低级烷氧基、卤素原子、卤素原子取代的低级烷基、苯氧基或苄氧基，R4是氢原子或低级烷基，m和n是0-4的任何整数，该化合物对杂草具有极好的除草活性，并且对作物，例如稻谷、大豆和棉花是完全选择的。
基本信息
专利标题 ：
呋喃并苯并吡喃衍生物、它们的制备方法及含这些化合物作为活性组分的除草剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1082048A
申请号 ：
CN93107581.5
公开（公告）日 ：
1994-02-16
申请日 ：
1993-05-28
授权号 ：
CN1036198C
授权日 ：
1997-10-22
发明人 ：
新井清司小泉文明岩崎泰永大冈真行江田贞文金元祥郎
申请人 ：
三井东压化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
魏金玺
优先权 ：
CN93107581.5
主分类号 ：
C07D493/04
IPC分类号 ：
C07D493/04 A01N43/90 //C07D493/04,311:04,307:80
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D493/00
杂环化合物，在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子
C07D493/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D493/04
邻位稠合系
法律状态
2003-07-23 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-11-11 ：
著录项目变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 三井东压化学株式会社
变更后 : 三井化学株式会社
变更前 : 三井东压化学株式会社
变更后 : 三井化学株式会社
1997-10-22 ：
授权
1994-10-26 ：
实质审查请求的生效
1994-02-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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