辉光放电装置和产生辉光放电的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种辉光放电的装置包括:一个细长的导电辉光条形电极;将电势加到辉光条形电极上从而产生离子的装置;产生从辉光条形电极流向第二电极的离子流的装置;和一个挡管,安置得使其部分挡住辉光条形电极与第二电极之间的离子流;所述挡管有许多孔眼,离子即通过该孔眼在辉光条形电极与第二电极之间流通;各孔眼相应的闸板可起码部分地挡住离子流通过各孔眼,各闸板能单独地移到多个位置,以便调节通过各孔眼的离子流。
基本信息
专利标题 :
辉光放电装置和产生辉光放电的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1101991A
申请号 :
CN93116412.5
公开(公告)日 :
1995-04-26
申请日 :
1993-09-04
授权号 :
CN1046318C
授权日 :
1999-11-10
发明人 :
小·J·J·沃茨尼阿克J·A·阿波隆尼L·A·雷里亚L·J·波特F·L·库恩E·R·库恩B·A·李斯
申请人 :
施乐公司
申请人地址 :
美国纽约
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
马铁良
优先权 :
CN93116412.5
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2006-11-08 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-11-10 :
授权
1995-09-06 :
实质审查请求的生效
1995-04-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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