从硅烷中去除含氢硅烷的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种从具有通式Ⅰ的硅烷及其混合物中去除含有直接与硅键合的氢原子的硅烷的方法，RxCL3-xSi-[SiRyCl2-y)n－Ａ__（Ⅰ）其中Ｒ代表具有１—１８个碳原子的、无乙烯双键的、可任意被卤素取代的烃残基，Ａ代表氯原子或残基Ｒ，Ｘ为０，１，２或３，Ｙ为０，１或２，ｎ为０或１。所述的含有直接与硅键合的氢原子的硅烷与氯化氢在作为催化剂的银或金的存在下反应从而获得相应的氯硅烷。
基本信息
专利标题 ：
从硅烷中去除含氢硅烷的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1092777A
申请号 ：
CN93120581.6
公开（公告）日 ：
1994-09-28
申请日 ：
1993-11-30
授权号 ：
CN1041521C
授权日 ：
1999-01-06
发明人 ：
威尔弗雷德·卡乔尔伯恩德·帕乔雷
申请人 ：
瓦克化学有限公司
申请人地址 ：
联邦德国慕尼黑
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
刘国平
优先权 ：
CN93120581.6
主分类号 ：
C07F7/12
IPC分类号 ：
C07F7/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
C07F7/12
有机卤化硅
法律状态
2001-01-24 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-01-06 ：
授权
1995-02-01 ：
实质审查请求的生效
1994-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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