一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明提供了一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法，其特征在于采用双靶(分别为NiCoCrAlSiHfY靶和Al靶)磁控溅射沉积法将NiCoCrAlSiHfY及Al同时沉积在高温合金上，沉积时NiCoCrAlSiHfY靶功率逐渐降低，而Al靶功率逐渐增加，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层。沉积后进行热处理，以增加涂/基结合强度。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。
基本信息
专利标题 ：
一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1103676A
申请号 ：
CN93120621.9
公开（公告）日 ：
1995-06-14
申请日 ：
1993-12-07
授权号 ：
CN1034350C
授权日 ：
1997-03-26
发明人 ：
叶锐曾于文秀陈仁治马跃发龚杰吴显云孙金贵孙庆标宋铂杨莲隐曹士伟崔绍成吕反修许庆芳袁建军
申请人 ：
北京科技大学
申请人地址 ：
100083北京市海淀区学院路30号
代理机构 ：
北京科技大学专利代理事务所
代理人 ：
刘月娥
优先权 ：
CN93120621.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2000-01-26 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-03-26 ：
授权
1995-12-20 ：
实质审查请求的生效
1995-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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