胶片显影装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
胶片显影装置，其组成包括：可进行与控制条上所施行条件相同规定条件构成的基准曝光的曝光部、已基准曝光胶片用的显影处理输送线、作显影处理后密度测定的密度计及根据测定结果提示处理液状态的构件。基准曝光以基准曝光专用的未曝光胶片和已拍摄胶片的未曝光部分为对象。设有多种密度计测定条件和基准曝光条件，并备有读取胶片类型的构件以适应各种胶片。具有简便进行处理液体管理的构件，显影处理简化且质量提高。
基本信息
专利标题 ：
胶片显影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1094826A
申请号 ：
CN94100037.0
公开（公告）日 ：
1994-11-09
申请日 ：
1994-01-07
授权号 ：
CN1036030C
授权日 ：
1997-10-01
发明人 ：
西田茂树谷端透
申请人 ：
诺日士钢机株式会社
申请人地址 ：
日本和歌山县
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
汪瑜
优先权 ：
CN94100037.0
主分类号 ：
G03D3/00
IPC分类号 ：
G03D3/00 G03B27/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03D
加工曝光后的照相材料的设备；其附件
G03D3/00
包括浸渍作用的液体加工设备；包括浸渍作用的水洗设备
法律状态
2002-02-27 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-10-01 ：
授权
1996-05-22 ：
实质审查请求的生效
1994-11-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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