铁氧体移相器实现高精度移相的方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种铁氧体移相器实现高精度移相的方法，该方法采用磁通式激励与饱和数字式激励相结合的数控方式，使移相器产生高精度移相，具体做法是：将波导中心加载的铁氧体沿波的传播方向分成n段，n≥2；其第1段采用磁通式激励方式，其余n－1段采用饱和数字式激励方式；然后，将磁通式激励段相移值与各饱和数字式激励段相移值进行叠加，使移相器在大于或等于360°范围内，按磁通式激励段的步进量进行高精度数控移相。本发明与使用单一的磁通式激励或饱和数字式激励的数控移相方式相比，可有效地提高移相精度。其最高移相精度可达到＜1°，能满足微波高频段高精度移相的要求。

基本信息

专利标题：

铁氧体移相器实现高精度移相的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794513A

申请号：

CN200510022749.7

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2005-12-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

高昌杰张蔚华鲁小刚杨卓杨景

申请人：

中国兵器工业第二○六研究所

申请人地址：

710100陕西省西安市长安区凤栖东路

代理机构：

陕西电子工业专利中心

代理人：

张问芬

优先权：

CN200510022749.7

主分类号：

H01P1/195

IPC分类号：

H01P1/195