电解抛光液和其平坦化金属层的方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明揭示一种含醇基添加剂的电解抛光液和其平坦化金属层的方法。所述电解抛光液包含一含醇基添加剂和一酸溶液。优选地，所述含醇基添加剂可为甘油、甲醇或乙醇，所述酸溶液包含磷酸和一有机酸添加剂，其中所述有机酸添加剂可为乙酸或柠檬酸。本发明利用所述含醇基添加剂在所述金属层表面形成一扩散抑制层以降低所述金属层的表面的抛光速率，但所述金属层的凹部和凸部在某浓度范围时都呈现相当程度的抛光抑制。在电解抛光液中添加有机酸添加剂会导致所述金属层的凸部和凹部有机酸浓度不同，因而使得凸部和凹部的抛光速率呈现更大差异。

基本信息

专利标题：

电解抛光液和其平坦化金属层的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1952221A

申请号：

CN200510109406.4

公开（公告）日：

2007-04-25

申请日：

2005-10-18

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

谢嘉民刘书宏戴宝通

申请人：

伊默克化学科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司

代理人：

刘国伟

优先权：

CN200510109406.4

主分类号：

C25F3/22

IPC分类号：

C25F3/22 H01L21/3063 H01L21/465