薄膜晶体管阵列基板以及液晶显示面板
专利申请权、专利权的转移
摘要
一种薄膜晶体管阵列基板,其包括基板、扫描线与数据线、像素单元、扫描焊垫、数据焊垫、第一开关元件以及第二开关元件。基板具有显示区以及周边线路区。扫描线与数据线设置于基板上,并将显示区划分成多个像素区域。像素单元设置于像素区域其中之一内,且其通过扫描线及数据线而驱动。扫描焊垫与数据焊垫设置于周边线路区内,并分别电连接至扫描线与数据线。第一与第二开关元件设置于周边线路区内,其中于相邻两个扫描焊垫之间设置有至少一个第一开关元件,且其与位于两侧的扫描焊垫电连接,而在相邻两个数据焊垫之间设置有至少一个第二开关元件,且其与位于两侧的数据焊垫电连接。
基本信息
专利标题 :
薄膜晶体管阵列基板以及液晶显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1955825A
申请号 :
CN200510114472.0
公开(公告)日 :
2007-05-02
申请日 :
2005-10-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘文雄沈慧中洪孟锋
申请人 :
中华映管股份有限公司
申请人地址 :
台湾省台北市中山北路三段二十二号
代理机构 :
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 :
王昕
优先权 :
CN200510114472.0
主分类号 :
G02F1/1368
IPC分类号 :
G02F1/1368 H01L29/786
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
G02F1/1368
其中开关元件为三电极装置
法律状态
2016-12-28 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101743940757
IPC(主分类) : G02F 1/1368
专利号 : ZL2005101144720
登记生效日 : 20161205
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 浩智无形资产管理投资有限公司
变更后权利人 : 武汉华星光电技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 马绍尔群岛马久罗阿杰泰克岛阿杰泰克路信托公司综合区MH96960
变更后权利人 : 430070 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
号牌文件序号 : 101743940757
IPC(主分类) : G02F 1/1368
专利号 : ZL2005101144720
登记生效日 : 20161205
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 浩智无形资产管理投资有限公司
变更后权利人 : 武汉华星光电技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 马绍尔群岛马久罗阿杰泰克岛阿杰泰克路信托公司综合区MH96960
变更后权利人 : 430070 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
2016-09-07 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101738474782
IPC(主分类) : G02F 1/1368
专利号 : ZL2005101144720
登记生效日 : 20160816
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中华映管股份有限公司
变更后权利人 : 浩智无形资产管理投资有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾台北市中山北路三段二十二号
变更后权利人 : 马绍尔群岛马久罗阿杰泰克岛阿杰泰克路信托公司综合区MH96960
号牌文件序号 : 101738474782
IPC(主分类) : G02F 1/1368
专利号 : ZL2005101144720
登记生效日 : 20160816
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中华映管股份有限公司
变更后权利人 : 浩智无形资产管理投资有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾台北市中山北路三段二十二号
变更后权利人 : 马绍尔群岛马久罗阿杰泰克岛阿杰泰克路信托公司综合区MH96960
2009-04-08 :
授权
2007-06-27 :
实质审查的生效
2007-05-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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