薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和装置
授权
摘要
本公开提供了一种薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和装置，涉及显示技术领域。所述薄膜晶体管包括：栅极和有源层，位于衬底基板的一侧；栅极绝缘层，位于所述栅极和所述有源层之间；和间隔开的源极和漏极，均与所述有源层接触，其中，所述栅极绝缘层的厚度与所述有源层的厚度的第一比值的范围为3至4。
基本信息
专利标题 ：
薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121094150.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-05-20
授权号 ：
CN216311789U
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
刘颀刘建涛先建波张伟高锦成江亮亮
申请人 ：
合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区新站工业物流园内A组团E区15幢综合楼
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张海强
优先权 ：
CN202121094150.5
主分类号 ：
H01L29/423
IPC分类号 ：
H01L29/423 H01L29/10 H01L29/786 H01L21/28 H01L21/336
法律状态
2022-04-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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