薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和显示装置

授权

摘要

本实用新型提供一种薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和显示装置，能够在薄膜晶体管尺寸不变的情况下，增大开态电流，包括衬底、设置于衬底上的栅极、源极和漏极、以及有源图案；有源图案包括第一有源图案和第二有源图案；沿衬底厚度方向，第一有源图案和第二有源图案分设于栅极两侧；第一有源图案包括第一源极区、第一沟道区和第一漏极区；第二有源图案包括第二源极区、第二沟道区和第二漏极区；第一沟道区、第二沟道区和栅极在衬底上的投影重叠；源极、第一有源图案对应第一源极区的部分、以及第二有源图案对应第二源极区的部分电连接；漏极、第一有源图案对应第一漏极区的部分、以及第二有源图案对应第二漏极区的部分电连接。

基本信息

专利标题：

薄膜晶体管、阵列基板、显示面板和显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922037725.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-22

授权号：

CN210443565U

授权日：

2020-05-01

发明人：

丁录科方金钢

申请人：

京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司

代理人：

申健

优先权：

CN201922037725.9

主分类号：

H01L29/786

IPC分类号：

H01L29/786 H01L29/10 H01L27/12 H01L21/336 H01L21/77