冶金管道的底喷嘴和底喷嘴中通流的调节方法
专利权的终止
摘要

本发明涉及冶金管道底喷嘴中通流的调节,其具有设置在冶金管道底板上的上喷嘴和设置在上喷嘴之下的下喷嘴,至少有一惰性气体入口和传感器,传感器设置在下喷嘴之上或之内来检测喷嘴内堵塞的厚度,用传感器的测量信号调控进入底喷嘴的惰性气体供应。本发明还涉及冶金管道的底喷嘴,其具有设置在冶金管道底板上的上喷嘴和设置在上喷嘴之下的下喷嘴,喷嘴中通流开口的隔层至少要与熔融金属流相密闭,喷嘴至少部分地被气密屏蔽套环绕,屏蔽套气密地环绕在下喷嘴底端外周,其部分内壁与喷嘴的外部接触,在通流开口壁和屏蔽套之间有一隔热固体。

基本信息
专利标题 :
冶金管道的底喷嘴和底喷嘴中通流的调节方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1781626A
申请号 :
CN200510119385.4
公开(公告)日 :
2006-06-07
申请日 :
2005-11-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
M·肯德尔
申请人 :
贺利氏电子耐特国际股份公司
申请人地址 :
比利时豪塔伦市
代理机构 :
上海新高专利商标代理有限公司
代理人 :
楼仙英
优先权 :
CN200510119385.4
主分类号 :
B22D11/18
IPC分类号 :
B22D11/18  B22D41/58  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B22
铸造;粉末冶金
B22D
金属铸造;用相同工艺或设备的其他物质的铸造
B22D11/00
金属连续铸造,即长度不限的铸造
B22D11/16
操作或运行的控制或调节
B22D11/18
用于浇注的
法律状态
2017-12-15 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B22D 11/18
申请日 : 20051102
授权公告日 : 20140416
终止日期 : 20161102
2014-04-16 :
授权
2012-10-31 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101457375252
IPC(主分类) : B22D 11/18
专利申请号 : 2005101193854
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 贺利氏电子耐特国际股份公司
变更后权利人 : RHI股份公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 比利时豪塔伦市
变更后权利人 : 奥地利维也纳
登记生效日 : 20120919
2007-03-21 :
实质审查的生效
2006-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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