抛光垫
专利权的终止
摘要
一种具有抛光层的抛光垫，该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2－15，在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4－20，其由聚氨酯或聚氨酯－脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。
基本信息
专利标题 ：
抛光垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1760240A
申请号 ：
CN200510119986.5
公开（公告）日 ：
2006-04-19
申请日 ：
2005-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
樱井富士夫河村知男五十岚善则
申请人 ：
JSR株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘维升
优先权 ：
CN200510119986.5
主分类号 ：
C08J5/14
IPC分类号 ：
C08J5/14 C08L75/04 B24B37/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/14
磨蚀或摩擦的制品或材料的制造
法律状态
2017-12-08 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C08J 5/14
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20100616
终止日期 : 20161014
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20100616
终止日期 : 20161014
2010-06-16 ：
授权
2007-07-11 ：
实质审查的生效
2006-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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