金刚石涂敷的多孔基底、液体处理设备以及液体处理方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明的目的是提供具有优异耐久性的多孔复合基底以及有效使用这种多孔复合基底作为过滤器和用于水处理等的场电极,该基底可以是物理或化学稳定的,并且能够用于苛刻的环境中,它是通过在具有开孔和过滤功能的多孔基材上涂敷具有高耐腐蚀性和绝缘性或如果需要时的良好导电性的涂层形成的。本发明是包括复合构件的多孔复合基底,所述复合构件包括多孔基材和覆盖该多孔基材的金刚石层,其中所述多孔基材和复合构件具有起着过滤功能的开孔。所述多孔基材是绝缘体、半导体或金属。
基本信息
专利标题 :
金刚石涂敷的多孔基底、液体处理设备以及液体处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1775696A
申请号 :
CN200510120215.8
公开(公告)日 :
2006-05-24
申请日 :
2005-11-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
关裕一郎泉健二今井贵浩
申请人 :
住友电气工业株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
程金山
优先权 :
CN200510120215.8
主分类号 :
C02F1/28
IPC分类号 :
C02F1/28 C02F1/461
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/28
吸附法
法律状态
2009-10-21 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-08 :
实质审查的生效
2006-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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