制造磁阻磁头的方法

专利权的终止

摘要

为了控制旋转阀膜中的晶粒尺寸，需要展示高生产率并能够形成大约10nm的构图的光刻技术。将包含聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的二嵌段共聚物4应用到下间隙层1(图2(a))。当涂敷通过混和PS和PMMA形成的液态附加剂时，获得了包括海状PS组织部分5和岛状PMMA组织部分6的膜结构。通过向膜结构施加臭氧RIE处理，海状PS组织部分5被蚀刻，以形成岛状PMMA组织部分6的构图(图2(b))。通过使用岛状PMMA组织部分作为抗蚀剂蚀刻下间隙层1，然后去除抗蚀剂，能够形成在下间隙层1上有规律地排列的不均匀性构图2(图2(c)、图2(d))。在经受了不均匀性制作的下间隙层1上形成旋转阀膜7。

基本信息

专利标题：

制造磁阻磁头的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1811921A

申请号：

CN200510120333.9

公开（公告）日：

2006-08-02

申请日：

2005-11-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

重松惠嗣

申请人：

日立环球储存科技荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰阿姆斯特丹

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

杨林森

优先权：

CN200510120333.9

主分类号：

G11B5/39

IPC分类号：

G11B5/39 G01R33/09