电照相光受体及其制法,使用其的成像方法、装置和处理盒
专利权的终止
摘要
一种电照相光受体，包括导电基底；和位于该导电基底之上的光敏层，该光敏层包括在其表面的交联层，该交联层通过一种方法来形成，该方法包括：在光敏层上涂敷涂敷液，该涂敷液包括溶剂；具有三个或更多官能团且没有电荷传输结构的自由基聚合单体；和具有电荷传输结构的自由基聚合化合物；以及照射该涂敷液以使之硬化，同时控制该光敏层的表面具有不高于该溶剂沸点的温度。
基本信息
专利标题 ：
电照相光受体及其制法,使用其的成像方法、装置和处理盒
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1811605A
申请号 ：
CN200510121643.2
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2005-11-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
河崎佳明铃木哲郎生野弘利根哲也
申请人 ：
株式会社理光
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
宋莉
优先权 ：
CN200510121643.2
主分类号 ：
G03G5/04
IPC分类号 ：
G03G5/04 G03G5/043 G03G13/02 G03G13/16 G03G15/04 G03G15/16 G03G21/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G5/00
采用辐照用于原稿记录的记录构件；记录构件的制造；所用材料的选择
G03G5/02
电荷接受层
G03G5/04
光导层；电荷发生层或电荷转移层；上述各层的添加剂和黏接剂
法律状态
2020-11-03 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03G 5/04
申请日 : 20051121
授权公告日 : 20110525
终止日期 : 20191121
申请日 : 20051121
授权公告日 : 20110525
终止日期 : 20191121
2011-05-25 ：
授权
2007-08-29 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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