使用断层成像设备研究样品的方法
公开
摘要

使用断层成像设备研究样品的方法。一种使用断层成像研究样品的方法,其包括以下步骤:提供样品和源;将来自所述源的辐射束引导到所述样品;以及检测透射穿过所述样品的辐射通量。所述方法进一步包括以下步骤:移动所述样品和所述源中的至少一个以用于提供所述源相对于所述样品的相对运动;以及沿着一系列不同检视轴线使所述样品成像,所述检视轴线与包围所述样品且大体上居中于其上的虚拟参考表面相交,其中所述移动和成像步骤的组合在所述虚拟参考表面上产生取样几何形状。如本文所定义,以使得所述取样几何形状包括多个间隔开的线段的方式协调所述移动和成像步骤。

基本信息
专利标题 :
使用断层成像设备研究样品的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114324420A
申请号 :
CN202111150542.3
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-09-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
A·M·金斯顿S·J·莱瑟姆A·P·谢帕德G·R·迈尔斯T·K·瓦尔斯洛特
申请人 :
FEI公司
申请人地址 :
美国俄勒冈州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
钟茂建
优先权 :
CN202111150542.3
主分类号 :
G01N23/046
IPC分类号 :
G01N23/046  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/046
应用X光断层技术,如计算机X光断层技术
法律状态
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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