一种光学投影断层成像系统
专利权的终止
摘要
本申请提供了一种光学投影断层成像系统,包括:光源模块、样品承载模块、信号采集模块和控制模块,还包括用于调整光源的调节装置,所述调节装置与所述光源模块配合设置,所述光源模块中包括外壳,所述外壳靠近所述样品承载模块的一侧设置有光源出口,所述调节装置设置于所述光源出口上。本申请中利用调节装置对光源进行调节,通过调节装置使得照射在样品上的光源的亮度,方向,光照范围是可以根据实际可调节的,有利于获得更好的成像效果。
基本信息
专利标题 :
一种光学投影断层成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920423748.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-03-29
授权号 :
CN209727807U
授权日 :
2019-12-03
发明人 :
段美玲李晋红李亦军闫仕农
申请人 :
中北大学
申请人地址 :
山西省太原市学院路3号
代理机构 :
济南千慧专利事务所(普通合伙企业)
代理人 :
姜月磊
优先权 :
CN201920423748.0
主分类号 :
G01N23/046
IPC分类号 :
G01N23/046 G01N21/64
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/046
应用X光断层技术,如计算机X光断层技术
法律状态
2022-03-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 23/046
申请日 : 20190329
授权公告日 : 20191203
终止日期 : 20210329
申请日 : 20190329
授权公告日 : 20191203
终止日期 : 20210329
2019-12-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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