螺旋扫描磁粒子投影断层成像方法、系统、设备

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摘要

本发明属于磁粒子成像技术领域，具体涉及一种螺旋扫描磁粒子投影断层成像方法、系统、设备，旨在解决三维磁粒子成像方法难以实现超长大尺寸目标成像及成像需要对每个扫描视野内获取多个投影断层图，导致成像时间过长的问题。本方法包括形成无磁场区域；对电磁感应信号进行预处理，得到单张投影图；通过采样定理，计算磁粒子成像装置旋转一圈进行三维重建所需要的最少投影数以及完成一个投影所需时间；计算螺旋扫描的最大螺距；利用插值法对螺旋扫描轨迹中获取的各单张投影图之间所缺失的投影数据进行补全；对投影断层数据进行滤波反投影重建。本发明实现了超长大尺寸目标的三维磁粒子成像，并减少了成像时投影断层图的数量，缩短了成像时间。

基本信息

专利标题：

螺旋扫描磁粒子投影断层成像方法、系统、设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113397521A

申请号：

CN202110662536.X

公开（公告）日：

2021-09-17

申请日：

2021-06-15

授权号：

CN113397521B

授权日：

2022-05-27

发明人：

田捷惠辉杨鑫

申请人：

中国科学院自动化研究所

申请人地址：

北京市海淀区中关村东路95号

代理机构：

北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

郭文浩

优先权：

CN202110662536.X

主分类号：

A61B5/0515

IPC分类号：

A61B5/0515 A61B5/0522