用于单光子发射断层成像的装置及投影数据的处理方法
公开
摘要
本发明实施例提供一种用于单光子发射断层成像的装置及投影数据的处理方法，装置包括准直器和遮挡机构，准直器包括接收部和屏蔽部，接收部表面凹陷形成至少两个通孔，屏蔽部围绕接收部形成容纳腔，射线通过通孔进入容纳腔，遮挡机构可移动设置于所述容纳腔内，用于遮挡射线，限制通孔的投影范围，分割各个通孔的投影，避免通孔投影混叠所带来的重建图像中的伪影，确保成像视野的完整性，解决了每个通孔成像视野会出现缺失的问题。
基本信息
专利标题 ：
用于单光子发射断层成像的装置及投影数据的处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114587398A
申请号 ：
CN202210256815.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙立风吕振雷马天予刘辉刘伟
申请人 ：
中核高能（天津）装备有限公司
申请人地址 ：
天津市东丽开发区五经路16号10号楼101室
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
臧静
优先权 ：
CN202210256815.0
主分类号 ：
A61B6/03
IPC分类号 ：
A61B6/03 A61B6/06
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61B
诊断；外科；鉴定
A61B6/00
用于放射诊断的仪器，如与放射治疗设备相结合的
A61B6/02
依次在不同平面中诊断的仪器；立体放射诊断的
A61B6/03
用电子计算机处理的层析X射线摄影机
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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