Gd3Al5...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种Gd3Al5O12:Ce，Dy发光薄膜及其制备方法，其特征在于所说的发光薄膜原料选用纯度为99.99％的Gd2O3，Al2O3，Ce2O3，Dy2O3，溶剂为水和乙醇；所制备发光薄膜的化学表达式为：Gd3(1－x－y)Al5O12:Ce3x，Dy3y其中，0.001＜x≤0.5；0.0001＜y≤0.1。本发明还提供了该发光薄膜制备方法。本发明制备的发光薄膜表面均匀、致密无开裂；薄膜颗粒大小均匀，而且薄膜的厚度可以控制；薄膜的发光性能优良；本发明的发光薄膜可用于制作场发射显示器的显示屏，该显示屏不但能够克服现有技术的缺点，而且还具有热稳定性高、放气率小、附着力强、表面平整度高等优点，同时可以应用于LED光转换等方面。
基本信息
专利标题 ：
Gd3Al5O12:Ce,Dy发光薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1775999A
申请号 ：
CN200510122039.1
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张晓松李岚王达健
申请人 ：
天津理工大学
申请人地址 ：
300191天津市南开区红旗南路263号
代理机构 ：
天津佳盟知识产权代理有限公司
代理人 ：
廖晓荣
优先权 ：
CN200510122039.1
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/30 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2008-06-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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