薄膜晶体管、其制造方法、显示设备及其制造方法
专利申请权、专利权的转移
摘要

公开了一种薄膜晶体管,该薄膜晶体管包括在基板上的栅电极,在所述基板上的栅极绝缘层,沟道图案,源电极和漏电极。所述沟道图案包括:形成在所述栅电极上并覆盖所述栅电极的半导体图案;以及形成在所述半导体图案上并彼此隔开的第一和第二导电粘合图案。所述源电极包括顺序形成在所述第一导电粘合图案上的第一阻挡图案、源极图案和第一覆盖图案。所述漏电极包括顺序形成在所述第二导电粘合图案上的第二阻挡图案、漏极图案和第二覆盖图案。所述第一和第二导电粘合图案的蚀刻部分具有基本竖直的轮廓从而防止了源电极和漏电极的暴露,由此改善了薄膜晶体管的特性。

基本信息
专利标题 :
薄膜晶体管、其制造方法、显示设备及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1790750A
申请号 :
CN200510124866.4
公开(公告)日 :
2006-06-21
申请日 :
2005-11-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金湘甲金时烈朴弘植崔熙焕秦洪基吴旼锡
申请人 :
三星电子株式会社
申请人地址 :
韩国京畿道
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
陶凤波
优先权 :
CN200510124866.4
主分类号 :
H01L29/786
IPC分类号 :
H01L29/786  H01L21/336  G02F1/136  
法律状态
2012-11-28 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101472743877
IPC(主分类) : H01L 29/786
专利号 : ZL2005101248664
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 三星电子株式会社
变更后权利人 : 三星显示有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道
登记生效日 : 20121026
2012-05-09 :
授权
2008-02-06 :
实质审查的生效
2006-06-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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