提高气流分布均匀性的气体喷嘴
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及一种气体喷嘴。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴包括圆柱本体，在圆柱本体内设有气体主流道，其中气体主流道呈锥筒形状，其末端部形成中心喷气孔。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴的优点和积极效果在于：本发明中，由于气体主流道为锥筒形状，所以流经该气体主流道的气体非常容易由与之相通的圆柱体壁上的各个喷气孔中喷出，有利于提高反应室中气体的均匀性，从而提高该半导体晶圆制造工艺中晶圆处理的良率。
基本信息
专利标题 ：
提高气流分布均匀性的气体喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1850348A
申请号 ：
CN200510126306.2
公开（公告）日 ：
2006-10-25
申请日 ：
2005-12-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈鹏
申请人 ：
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请人地址 ：
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
练光东
优先权 ：
CN200510126306.2
主分类号 ：
B05B1/14
IPC分类号 ：
B05B1/14 C23C16/513 C23F4/04 H01L21/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B1/12
•能产生不同种类的排射，如喷流或喷雾
B05B1/14
有多个出口孔；在出口孔内或出口孔外装有过滤器
法律状态
2011-09-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183765035
IPC(主分类) : B05B 1/14
专利申请号 : 2005101263062
公开日 : 20061025
号牌文件序号 : 101183765035
IPC(主分类) : B05B 1/14
专利申请号 : 2005101263062
公开日 : 20061025
2006-12-20 ：
实质审查的生效
2006-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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