一种提高进气均匀性的进气装置
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及微电子技术领域，具体涉及一种提高进气均匀性的进气装置。本发明公开的一种提高腔室进气均匀性的进气装置，包括圆筒状喷嘴主体，所述圆筒状喷嘴主体底端部设有底板，底板上有通孔，所述圆筒状喷嘴主体的下部内壁设有栅，其中，圆筒状喷嘴主体和底板连为一体。本发明与已有技术相比，增大了进气压力，使得进入腔室内的气体更均匀，从而使得等离子体更均匀；改善了工艺的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种提高进气均匀性的进气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1850350A
申请号 ：
CN200510126356.0
公开（公告）日 ：
2006-10-25
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
荣延栋
申请人 ：
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请人地址 ：
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
王常风
优先权 ：
CN200510126356.0
主分类号 ：
B05B1/14
IPC分类号 ：
B05B1/14 C23C16/44 C23C16/513 C23F3/00 H01L21/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B1/12
•能产生不同种类的排射，如喷流或喷雾
B05B1/14
有多个出口孔；在出口孔内或出口孔外装有过滤器
法律状态
2010-10-06 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101008387069
IPC(主分类) : B05B 1/14
专利申请号 : 2005101263560
公开日 : 20061025
号牌文件序号 : 101008387069
IPC(主分类) : B05B 1/14
专利申请号 : 2005101263560
公开日 : 20061025
2006-12-20 ：
实质审查的生效
2006-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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