双井的精确钻井导向方法和系统
授权
摘要
一种用于引导与第一井眼相邻的第二井眼的钻进轨迹的方法，其包括：向第一井眼的导电套管或衬管施加随时间变化的电流；从第二井眼的钻进轨迹，探测由第一井眼内的电流产生的电磁场，以及利用探测到的电磁场引导第二井眼的钻进轨迹。
基本信息
专利标题 ：
双井的精确钻井导向方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782320A
申请号 ：
CN200510128513.1
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·L·沃特斯
申请人 ：
通用电气公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
廖凌玲
优先权 ：
CN200510128513.1
主分类号 ：
E21B7/04
IPC分类号 ：
E21B7/04 E21B47/022
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21B
土层或岩石的钻进；从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆
E21B7/00
钻井的特殊方法或设备
E21B7/04
定向钻井
法律状态
2011-06-08 ：
授权
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
