双井的精确钻井导向方法和系统
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摘要

一种用于引导与第一井眼相邻的第二井眼的钻进轨迹的方法,其包括:向第一井眼的导电套管或衬管施加随时间变化的电流;从第二井眼的钻进轨迹,探测由第一井眼内的电流产生的电磁场,以及利用探测到的电磁场引导第二井眼的钻进轨迹。

基本信息
专利标题 :
双井的精确钻井导向方法和系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1782320A
申请号 :
CN200510128513.1
公开(公告)日 :
2006-06-07
申请日 :
2005-11-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
R·L·沃特斯
申请人 :
通用电气公司
申请人地址 :
美国纽约州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
廖凌玲
优先权 :
CN200510128513.1
主分类号 :
E21B7/04
IPC分类号 :
E21B7/04  E21B47/022  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进;采矿
E21B
土层或岩石的钻进;从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆
E21B7/00
钻井的特殊方法或设备
E21B7/04
定向钻井
法律状态
2011-06-08 :
授权
2008-02-06 :
实质审查的生效
2006-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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