光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法
授权
摘要
披露了一种用于在光刻设备中移动分划板的分划板交换单元。分划板的表面由通过气体可渗透的薄膜框架接附到其上的薄膜保护。分划板交换单元包括分划板准备腔、布置为使得薄膜框架的多个暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔内部的分划板运送单元，以及净化气体压力和排气压力供给构造，其连接到分划板准备腔且布置为当薄膜框架的暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔的内部时交替地提供净化气体压力和低于净化气体压力的排气压力到分划板准备腔，使得气体流过薄膜框架交替地进入和离开薄膜和分划板之间的薄膜空间。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1786826A
申请号 ：
CN200510129549.1
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·坦卡特
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
原绍辉
优先权 ：
CN200510129549.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/14 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-12-16 ：
授权
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
