真空处理装置
专利权的终止
摘要
在真空搬送腔室的内部配置有润滑脂供给机构，该润滑脂供给机构包括：在内部收容有润滑脂的有底筒状的润滑脂收容部；和闭塞润滑脂收容部的开口而配置的、能够与润滑脂收容部的内壁滑动移动的盖体。当按压并移动盖体时，润滑脂经过润滑脂供给口而注入到润滑脂注入口内。
基本信息
专利标题 ：
真空处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1808691A
申请号 ：
CN200510132164.0
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
新藤健弘
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN200510132164.0
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 H01L21/3065 H01L21/20 H01L21/67 C23C14/00 C23C16/00 C23F1/12 C23F4/00 F16N1/00 F16H57/04 F16H25/20
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2018-02-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/00
申请日 : 20051222
授权公告日 : 20081119
终止日期 : 20161222
申请日 : 20051222
授权公告日 : 20081119
终止日期 : 20161222
2008-11-19 ：
授权
2006-09-20 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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