本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元，该下部水平移动单元分别安装在下盖的各侧；一对上部水平移动单元，该各上部水平移动单元在各自的下部移动单元上可旋转地和上盖连接，以水平方向移动上盖使其从下盖分离；升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装在其上，升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。