本发明公开了一种改善涂布层均匀质量的工艺方法，该方法包括下列步骤，首先提供一涂布头以及一基板，利用该涂布头与该基板间的一相对运动使从该涂布头输出的涂料流体可以涂布于基板上；再以一控制方式调节该基板与该涂布头间一涂布珠的压力环境以控制该涂布珠的一上游新月长度或稳定度，使工艺落于一无缺陷的涂布窗域内。通过该方法，本发明分别设计了涂布头的结构以及调整基板与涂布头间的攻角，进而控制涂布珠的压力梯度变化，以提升工艺的良品率。此外，本发明还提供一种方法，通过预测缺陷的频率，并以与该缺陷的频率具有一相位差的一波形来减低涂布珠下游月形的振动，进而达到减少缺陷产生，提高工艺良品率的目的。