改善显示背板刻蚀工艺的方法
实质审查的生效
摘要
本文公开一种改善显示背板刻蚀工艺的方法，包括：在通过支撑柱加载显示背板前，调整支撑柱的高度使支撑柱的顶面和电极的顶面在同一个平面内，模拟刻蚀显示背板时提供的磁场环境，给支撑柱和电极通电，调节支撑柱的供电参数直至目标区域内的电场和/或磁场强度达到均匀性标准，记录最终确定的支撑柱供电参数；通过支撑柱加载显示背板，调整支撑柱的高度使支撑柱的顶面和电极的顶面在同一平面内，给电极通电以吸附背板，根据之前确定的支撑柱供电参数给支撑柱通电以产生电场和/或磁场，在显示背板进行刻蚀的过程中持续给支撑柱和电极供电；其中，电极的顶面和支撑柱的顶面是与显示背板接触的接触面。本文提供的方法能改善显示背板的刻蚀均一性。
基本信息
专利标题 ：
改善显示背板刻蚀工艺的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114551773A
申请号 ：
CN202210174061.4
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-02-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李淳东陈兵杨云华夏麒帆吉永城
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡艳华
优先权 ：
CN202210174061.4
主分类号 ：
H01L51/56
IPC分类号 ：
H01L51/56 H01L21/67 H01J37/32
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/56
申请日 : 20220224
申请日 : 20220224
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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